WOOPS! Mae'n edrych fel bod y ddelwedd rydych chi'n chwilio amdani wedi dod i ben neu wedi'i dileu.

Ceisiwch greu delwedd newydd gan ddefnyddio'r un termau.

Creu delwedd gydag AI

camouflage option decorative pattern geometric patterns monochrome pattern resolution Seamless realistic masking cyberpunk ornament

Disgrifiad

Resolution 3840 x 2160, seamless, pattern, realistic, 4K, 3D, masking, cyberpunk, ornament, decorative pattern, geometric patterns, minimalism, modern, monochrome pattern for applying to clothes, camouflage option for soldiers from the future

#openjourney-v4

Remix this prompt Gwneud Delwedd Golygu Delwedd

Save your results and access them anywhere.

Creu cyfrif

Sicrhewch allbynnau o ansawdd gwell gyda mwy o nodweddion

Dod yn PRO →

Cyfanswm y delweddau wedi'u golygu a/neu eu gwneud ar olygydd delwedd AI:

1,386,693